double patterning 썸네일형 리스트형 UMC 28nm 공정으로 SRAM 시험제조 성공 대만의 UMC 회사는 그저께 업계 최초로 28nm 공정의 SRAM 을 성공적으로 생산해 냈다고 밝혔습니다. 반도체 업계에서 SRAM은 신공정이 생기면 흔히 제일 처음 만들어 보는 반도체중 하나입니다. 이로써, 28nm SRAM의 성공적인 실험 생산으로 UMC는, 28nm 제조공정 기술을 입증해 보이게된 셈이기도 합니다. UMC의 28nm SRAM은 이회사에서 자체 개발한 LL저누전(低漏電) 제조공정 기술 입니다. 여기엔 double patterning 방식의 액침 노광 기술(Immersion Lithography) 과 Strained Silicon 기술이 사용되어 제조된 것으로, 6개의 트랜지스터로 이루어진 SRAM 하나의 크기는 0.122 평방 미크론 라고 합니다. UMC는 28nm 제조공정을 응용할때.. 더보기 이전 1 다음
