Hight-K 썸네일형 리스트형 TSMC는 2010년에 28nm 공정으로 진입할 계획 비록 40nm 공정이 연기되고 아직 생산도 안하고있는 상태지만, TSMC는 더욱 먼 미래를 향해 나아가고 있습니다. 그것은 바로 2010년 1분기에 28nm 생산공정으로 갈아탄다는 것입니다. 28nm는 TSMC로써 말하자면, 첫번째의 풀노드(full-node) 공정 입니다. 결코 55nm 처럼 하프-노드(half-node) 공정이 아닙니다. 또한 그대가 되면 하이K(hight-K)그리드 기술을 사용한다고 합니다. 원래 이 하이K 기술은 32nm 공정해서 사용하려던 것이였습니다. TSMC의 28nm공정은 두종류로 나뉘는데 그중 하나는 주로 저전력의 “28LPT” 이고 또 하나는 고성능의 “28HP” 입니다. 후자는 그래픽 칩, 프로세서 등을 만들때 사용하며, 2010년 상반기에 이 공정으로 생산을 시작할 .. 더보기 TSMC는 45,40nm 공정에 약 7억달러를 투자 TSMC는 경영 이사회의 승인을 거쳐 12인치(300mm)웨이퍼 공장의 45나노와 40나노 공정의 생산라인을 위해 6.876억 달러의 돈을 추가로 투자하기로 결정했다고 합니다. 이전 소식에 의하면，TSMC는 40nm 생산라인을 내년초 까지 완성해서 사용하겟다고 했었습니다. Fab 14 에서도 신공정 생산라인을 투입하기로 한게 주된 이유입니다. 그밖에 TSMC 는 1.074억 달러를 투입하여, 8인치(200mm) 웨이퍼 설비를 업그레이드 하는데 쓴다고 합니다. 또한 일부분은 0.18 미크론 생산라인에 가져다가, 0.11미크론 CMOS 영상센서, 0.11미크론 논리회로, 0.13미크론 고전압 회로, 그리고 0.18미크론 주파수 공정 능력을 갖춘다고 합니다. 일부분의 0.35미크론 생산라인 역시 개선 될 것이.. 더보기 이전 1 2 다음
